12月14日，微导纳米开启申购。公司申购代码为787147，拟公开发行股票4544.55万股，其中网上发行772.55万股，发行价格为24.21元，发行市盈率412.24倍。而该公司所在行业最近一个月平均静态市盈率为34.48倍。该公司发行市盈率为行业的11.96倍。
微导纳米成立于2015年，该公司以原子层沉积(ALD)技术为核心，主要从事先进微、纳米级薄膜沉积设备的研发、生产和销售。
公司业务涵盖集成电路、光伏、LED、MEMS 等半导体相关领域，以及新能源和柔性电子领域 ；主要产品为应用于逻辑芯片、存储芯片、硅基微显示和3D 封装等半导体及泛半导体ALD 设备和技术，以及应用于柔性电子、新一代高效太阳能电池的薄膜设备和量产解决方案。
半导体制造中的薄膜沉积是指任何在硅片衬底上沉积一层膜的工艺，这层膜可以是导体、绝缘物质或者半导体材料。
薄膜沉积有化学和物理工艺之分，具体而言可分为化学气相沉积(CVD，15%，Gartner 统计的 2018 年占半导体制造设备比重数据，下同)、物理气相沉积(PVD 或溅射，4%)、其他沉积(3%)三大类。按 2018 年 Gartner 的划分，CVD 中管式 CVD 占 18%、非管式低压CVD 占 16%、原子层沉积 ALD 占 16%、等离子体 CVD(包括 PECVD 和 HDPCVD)占 49%；其他沉积中，电镀占 27%、MOCVD 占 31%、外延占 37%、旋涂绝缘介质 SOD 占 2%。
该设备环节的厂商并不多，国内集成电路沉积设备主要厂商为北方华创（002371）和沈阳拓荆，近年来两家公司分别在技术储备以及客户认证方面取得良好进展。微导纳米虽然市场份额还没有充分突出，但是该公司是首创将ALD技术规模化应用于光伏领域，已成为提供高效电池技术与设备的领军企业。
北方华创和拓荆科技目前的动态市盈率分别为60.83倍和125.65倍。尽管这两家公司的设备路线主要是PVD、CVD，ALD技术路线产品营收占比很小，但是微导纳米的技术溢价在如今的上市估值中还是过分高估了。